Espesyal nga mga Gas
-
Sulfur Tetrafluoride (SF4)
EINECS NO: 232-013-4
NUMERO SA CAS: 7783-60-0 -
Nitrous Oxide (N2O)
Ang nitrous oxide, nailhan usab nga laughing gas, usa ka delikado nga kemikal nga adunay kemikal nga pormula nga N2O. Kini usa ka walay kolor, humot nga gas. Ang N2O usa ka oxidant nga makasuporta sa pagkasunog ubos sa pipila ka mga kondisyon, apan lig-on sa temperatura sa kwarto ug adunay gamay nga epekto sa anestisya, ug makapakatawa sa mga tawo. -
Karbon nga Tetrafluoride (CF4)
Ang carbon tetrafluoride, nailhan usab nga tetrafluoromethane, usa ka walay kolor nga gas sa normal nga temperatura ug presyur, dili matunaw sa tubig. Ang CF4 gas karon mao ang labing kaylap nga gigamit nga plasma etching gas sa industriya sa microelectronics. Gigamit usab kini isip laser gas, cryogenic refrigerant, solvent, lubricant, insulating material, ug coolant para sa infrared detector tubes. -
Sulfuril nga Fluoride (F2O2S)
Ang sulfuryl fluoride SO2F2, usa ka makahilong gas, kasagarang gigamit isip insecticide. Tungod kay ang sulfuryl fluoride adunay mga kinaiya sa kusog nga pagsabwag ug pagkamataguson, lapad nga spectrum insecticide, ubos nga dosis, ubos nga nahabilin nga kantidad, paspas nga insecticidal speed, mubo nga gas dispersion time, sayon gamiton sa ubos nga temperatura, walay epekto sa germination rate ug ubos nga toxicity, kini mas kaylap nga gigamit sa mga bodega, cargo ship, mga bilding, reservoir dam, pagpugong sa anay, ug uban pa. -
Silane (SiH4)
Ang Silane SiH4 usa ka walay kolor, makahilo ug aktibo kaayo nga compressed gas sa normal nga temperatura ug presyur. Ang Silane kaylap nga gigamit sa epitaxial growth sa silicon, hilaw nga materyales para sa polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, ug uban pa, solar cells, optical fibers, colored glass manufacturing, ug chemical vapor deposition. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, kaputli sa gas: 99.999%, sagad gigamit isip propellant sa aerosol sa pagkaon ug medium gas. Kanunay kini gigamit sa proseso sa semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), ang C4F8 gigamit isip kapuli sa CF4 o C2F6, gigamit isip gas sa pagpanglimpyo ug gas sa proseso sa semiconductor etching. -
Nitrikong Oksido (NO)
Ang nitric oxide gas usa ka compound sa nitrogen nga adunay kemikal nga pormula nga NO. Kini usa ka walay kolor, walay baho, makahilong gas nga dili matunaw sa tubig. Ang nitric oxide kay kemikal nga reaktibo ug mo-react sa oksiheno aron maporma ang corrosive gas nga nitrogen dioxide (NO₂). -
Hidroheno Klorida (HCl)
Ang Hydrogen chloride HCL Gas usa ka walay kolor nga gas nga adunay baho nga mahait. Ang tubigon nga solusyon niini gitawag og hydrochloric acid, nailhan usab nga hydrochloric acid. Ang hydrogen chloride kasagarang gigamit sa paghimo og mga tina, mga panakot, mga tambal, lain-laing mga chloride ug mga inhibitor sa kaagnasan. -
Heksafluoropropilena (C3F6)
Ang Hexafluoropropylene, nga adunay kemikal nga pormula: C3F6, usa ka walay kolor nga gas sa normal nga temperatura ug presyur. Kini kasagarang gigamit sa pag-andam sa lain-laing mga pinong kemikal nga produkto nga adunay fluorine, mga intermediate sa parmasyutiko, mga ahente sa pagpalong sa sunog, ug uban pa, ug mahimo usab nga gamiton sa pag-andam sa mga materyales nga polimer nga adunay fluorine. -
Amonya (NH3)
Ang likido nga ammonia / anhydrous ammonia usa ka importante nga kemikal nga hilaw nga materyal nga adunay daghang gamit. Ang likido nga ammonia mahimong gamiton isip refrigerant. Kini kasagarang gigamit sa paghimo og nitric acid, urea ug uban pang kemikal nga abono, ug mahimo usab nga gamiton isip hilaw nga materyal alang sa medisina ug pestisidyo. Sa industriya sa depensa, gigamit kini sa paghimo og mga propellant para sa mga rocket ug missile.
