Espesyal nga mga Gas
-
Sulfur Tetrafluoride (SF4)
EINECS NO: 232-013-4
CAS NO: 7783-60-0 -
Nitrous Oxide (N2O)
Ang nitrous oxide, nailhan usab nga laughing gas, usa ka delikado nga kemikal nga adunay kemikal nga pormula nga N2O. Kini usa ka walay kolor, matam-is nga baho nga gas. Ang N2O usa ka oxidant nga makasuporta sa pagkasunog ubos sa pipila ka mga kondisyon, apan lig-on sa temperatura sa lawak ug adunay gamay nga anesthetic nga epekto. , ug makapakatawa sa mga tawo. -
Carbon Tetrafluoride (CF4)
Ang carbon tetrafluoride, nailhan usab nga tetrafluoromethane, usa ka walay kolor nga gas sa normal nga temperatura ug pressure, dili matunaw sa tubig. Ang CF4 nga gas sa pagkakaron mao ang labing kaylap nga gigamit nga plasma etching gas sa industriya sa microelectronics. Gigamit usab kini isip laser gas, cryogenic refrigerant, solvent, lubricant, insulating material, ug coolant alang sa infrared detector tubes. -
Sulfuryl Fluoride (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, makahilo nga gas, kay kasagarang gigamit isip insecticide. Tungod kay ang sulfuryl fluoride adunay mga kinaiya sa kusog nga pagsabwag ug pagkamatuhup, lapad nga spectrum insecticide, ubos nga dosis, ubos nga nahabilin nga kantidad, paspas nga insecticidal speed, mubo nga oras sa pagsabwag sa gas, sayon nga paggamit sa ubos nga temperatura, walay epekto sa germination rate ug ubos nga toxicity, mas daghan. Mas ug mas kaylap nga gigamit sa mga bodega, mga barko sa kargamento, mga bilding, mga dam sa reservoir, pagpugong sa anay, ug uban pa. -
Silane (SiH4)
Ang Silane SiH4 usa ka walay kolor, makahilo ug aktibo kaayo nga compressed gas sa normal nga temperatura ug pressure. Ang Silane kaylap nga gigamit sa epitaxial nga pagtubo sa silicon, hilaw nga materyales alang sa polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, ug uban pa, solar cells, optical fibers, colored glass manufacturing, ug chemical vapor deposition. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, kaputli sa gas: 99.999%, kasagarang gigamit isip food aerosol propellant ug medium gas. Kanunay kini nga gigamit sa semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition) nga proseso, ang C4F8 gigamit ingon usa ka kapuli sa CF4 o C2F6, gigamit ingon paglimpyo sa gas ug proseso sa semiconductor nga etching gas. -
Nitric Oxide (NO)
Ang nitric oxide gas usa ka compound sa nitrogen nga adunay kemikal nga pormula nga NO. Kini usa ka walay kolor, walay baho, makahilo nga gas nga dili matunaw sa tubig. Ang nitric oxide kay chemically reactive kaayo ug mo-react sa oxygen aron maporma ang corrosive gas nitrogen dioxide (NO₂). -
Hydrogen Chloride (HCl)
Ang Hydrogen chloride HCL Gas usa ka walay kolor nga gas nga adunay humot nga baho. Ang tubigon nga solusyon niini gitawag nga hydrochloric acid, nailhan usab nga hydrochloric acid. Ang hydrogen chloride kasagarang gigamit sa paghimo og mga tina, mga panakot, mga tambal, nagkalain-laing chloride ug corrosion inhibitors. -
Hexafluoropropylene (C3F6)
Hexafluoropropylene, kemikal nga pormula: C3F6, usa ka walay kolor nga gas sa normal nga temperatura ug presyur. Kini kasagarang gigamit sa pag-andam sa nagkalain-laing fluorine-containing fine kemikal nga mga produkto, pharmaceutical intermediate, fire extinguishing agents, ug uban pa, ug mahimo usab nga gamiton sa pag-andam sa fluorine nga adunay polymer nga mga materyales. -
Ammonia (NH3)
Ang likido nga ammonia / anhydrous ammonia usa ka hinungdanon nga hilaw nga materyal nga kemikal nga adunay daghang mga aplikasyon. Ang likido nga ammonia mahimong magamit ingon usa ka refrigerant. Kasagaran kini gigamit sa paghimo sa nitric acid, urea ug uban pang mga kemikal nga abono, ug mahimo usab nga gamiton ingon usa ka hilaw nga materyales alang sa tambal ug pestisidyo. Sa industriya sa depensa, gigamit kini sa paghimo og mga propellant para sa mga rocket ug missile.
